라이센스뉴스 = 최은경 기자 | 특허청(청장 김용래)은 13일  서울 코엑스에서 국회 이학영 의원실과 한국지적재산권변호사협회 공동으로 ‘기술유출범죄와 양형기준 학술 세미나’를 개최한다고 밝혔다.

이번 세미나는 양형기준의 관점에서 기술유출범죄를 근절할 수 있는 방안에 대해 전문가 의견을 교환하고, 개선할 수 있는 방안을 논의하기 위해 마련됐다. 

글로벌 시장에서 경쟁국들의 ‘기술 빼가기’의 수법이 고도화되고 있고, 최근 우리나라 연구인력을 영입하기 위해서 유령회사를 설립하거나 국내 리서치 업체를 통해 기술을 수집하는 사례까지 나타나고 있다.

국정원에 따르면 지난 5년 6개월간(‘16.1~’21.6) 해외 기술유출로 인한 경제적 피해가 최소 20조원 이상인 것으로 추정하고 있다. 

반면 이런 기술유출 사건의 기소율은 일반 형사사건(40%)의 절반 수준(20.5%)에 불과하고, 무죄율도 20배 이상 높다.(기술유출 19.4%, 일반형사 0.8%)

특히 유죄로 인정되어도 형량이 법정형(최대 15년)의 절반에도 미치지 못하고 있는 실정(최대 6년)이다.

이에 따라 이번 세미나에서는 기술유출범죄와 양형기준에 대한 현황과 문제점을 살펴보고, 패널토론과 질의응답 순으로 진행할 예정이다.

한세대학교 조용순 교수는 '기술유출범죄와 양형기준 정비의 필요성'을 주제로 기술유출과 양형기준 현황과 함께 양형기준 정비가 필요한 이유에 대해 설명할 예정이다.

한국형사법무정책연구원 윤해성 선임연구위원도 '기술유출범죄와 타 범죄의 양형기준 비교'를 주제로 구체적인 양형기준의 차이점 등을 비교한다.

이밖에 법무법인 세종 정창원 변호사는 '기술유출범죄 관련 형사절차(양형 포함)의 문제점과 한계'를 주제로 실무소송 과정에서 개선이 필요한 부분을 다룬다.

김용래 특허청장은 “기술유출행위가 국가의 경제와 안보는 물론 기업의 생존을 위협하는 중대한 범죄라는 인식이 하루빨리 자리 잡아야 할 것“이라면서 “기술유출을 중대범죄로 인식하여 15년 이상의 중형을 선고하는 미국 사례를 참고할 필요가 있다.”고 말했다.